金属喷淋头在气体分配系统中的角色在半导体制造过程中，气体分配系统是确保工艺稳定性和产品质量的关键环节。金属喷淋头/Showerhead/气体分配盘/匀气盘，作为气体分配系统的核心部件，其设计合理性直接影响到气体的分布均匀性和工艺效率。通过优化金属喷淋头的结构设计，如采用…
时间：2025-08-28
金属喷淋头Showerhead：半导体制造的幕后英雄在半导体制造这一高科技领域中，金属喷淋头作为气体分配系统的关键部件，虽然不直接参与晶圆的加工过程，但其性能却直接影响到工艺的稳定性和产品质量。金属喷淋头通过精确控制气体的流量、压力和分布，为半导体制造提供了稳定、可…
时间：2025-08-28
技术革新引领金属喷淋头发展金属喷淋头（Showerhead/气体分配盘/匀气盘），作为半导体制造中气体分配系统的核心，其技术进步直接关系到半导体工艺的效率和成品率。近年来，随着材料科学、微纳加工技术的飞速发展，金属喷淋头在结构设计、材料选择、制造工艺等方面均取得了显著…
时间：2025-08-28
引言在半导体制造这一高度精密且技术密集型的领域，每一个组件都扮演着至关重要的角色。其中，金属喷淋头（Showerhead），尤其是作为气体分配盘和匀气盘的关键部件，直接影响到半导体工艺的稳定性和产品质量。本文将深入探讨金属喷淋头在半导体设备中的应用，并结合国内市场现…
时间：2025-08-28
干法刻蚀作为微纳加工领域的核心技术，凭借其高精度、各向异性等优势，广泛应用于集成电路制造及微机电系统（MEMS）等领域。其核心原理是通过气体或等离子体与材料表面的物理/化学反应实现精准刻蚀，而这一过程中，Showerhead（喷淋头/匀气盘/气体分配盘）的设计直接决定了气体…
时间：2025-08-28
一、微孔激光加工：精度革命驱动制程跃迁1.1 核心功能与技术挑战金属喷淋头通过数万个微孔（直径10-200μm）实现气体均匀喷射，其加工精度直接决定薄膜沉积厚度偏差（3%为合格阈值）。传统机械钻孔因刀具磨损导致孔径偏差达5μm，而五轴联动激光加工技术可实现： 孔径精度：0.…
时间：2025-08-12
一、核心功能与技术挑战金属喷淋头通过数万个微孔（直径10-200μm）实现气体均匀喷射，其加工精度直接影响薄膜沉积厚度偏差（3%以内为合格）。传统机械钻孔因刀具磨损导致孔径偏差达5μm，而五轴联动激光加工技术可将偏差控制在0.8μm内，并实现孔壁粗糙度Ra<0.2μm的镜面效…
时间：2025-08-12
行业趋势：台积电N3节点设备中，不锈钢喷淋头渗透率已超60%，而铝合金仅用于非关键层沉积。未来3年，钴基合金（如Haynes 230）或因其在1000℃下的抗氧化性，成为EUV光刻配套设备的潜在替代方案。 在半导体薄膜沉积设备中，金属喷淋头需同时满足耐高温、抗等离子体腐蚀和气体均…
时间：2025-08-12
皖公网安备34070602000025号